电解抛光工艺样品质量在精加工表面粗糙度测量仪

电解抛光工艺样品质量在精加工表面粗糙度测量仪
  对于非常尖锐的干涉条纹来说，由于多次反射的光束每经过50-100次反射都要稍微向旁边移动（离开），
因而在平表面上的解析率大约只有五个波长。另一方面，其灵敏度非常之高，对表面形貌图中和阶梯高度可以分辨到0.5nm。用干涉反差技术甚至可得到更高的分辨率，这要把参考平面安放到平行于表面的位置上，在为条件下可以使单个黑色条纹充满整个视场，而条纹横断面上产生的光强变化实际上可探测出0.15nm的阶梯，大大小于单个原子的高度。

  电解抛光工艺象抛光一样，在精加工表作一假想直线，由此可得到表面上沿任意方向和表面轮廓，沿着这条线移动，每移过一条纹表面上升（或下降）大约250nm（取决于光源波长）。在条纹间用精密内插法计算，实际绘的轮廓图具有相当精度是可能的。