荧光分析物料筛选实际中的应用-矿样分析

荧光分析物料筛选实际中的应用-矿样分析
x射线荧光分析有两种实际应用方法，即x射线集中系统(在料流上方)及探针系统(在料流中)。集中系统处于物料上方，可将几处矿浆矿样输送至安装全套设备的中心，用一个单一高能激发源进行分析。探针系统处于料流内，利用安装在料流内或者附近的传感器，使用方便的低能激发源(通常是放射性同位素)对料流进行在线检测。这种方法不需要将代表性矿样输送至分析设备，较为便利。放射源与探测器装配在一起，置于一个紧凑的装置中，称为探头。    集中系统通常安装在大选厂中以连续监控不同的矿浆流，而矿浆流少一些的小厂可安装投资较低的探头系统。    在线x射线分析系统也存在一些问题，主要问题是如何保证射线检测的样品能代表整体料流，而且如何保证反馈射线检测到的是该试样有代表性的部分。激发射线先通过一个塑料膜窗口，然后穿透与该窗口接触的矿浆相互作用。反馈射线从相反的路径返回探测器，大部分射线被深度几个毫米的矿样吸收，因此直接接触薄膜窗口的矿浆层对分析结果的影响最大。分析的准确性和可靠性就取决于这层矿浆是否能代表整个矿浆流。薄膜窗口表面与矿浆的相互作用会造成此处矿浆发生离析。可以在x射线集中系统分析仪中使用高湍流溜槽消除这种现象。将探头设置在待测主矿浆流附近，可显著降低取样和输送的操作成本及设计的复杂性，但要注意探头测量界面上代表性矿样须处于湍流状态。